La publication de cette image par des tiers est soumise à l’autorisation de l’auteur.

Technique de réalisation/Apport scientifique :

Cette micrographie représente une succession de couches de carbure de silicium déposées sur un substrat en graphite. Ces couches ont été déposées sous différentes conditions par réaction de dépôt en phase vapeur (CVD). On réalise des dépôts successifs sur un même échantillon lorsque l’on étudie les cinétiques des réactions chimiques de dépôt. L’observation des dépôts fournit des informations sur la structure de chacune de ces couches.

Descriptif technique :

Ce cliché a été réalisé par microscopie électronique à balayage (MEB) à électrons secondaires avec un grandissement x800.

Provenance : Laboratoire des Composites Thermostructuraux (Pessac).